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ASML明年出货30台EUV光刻机 新一代设备效能提升24%

2018-10-20 22:22:26

来源:TechNews科技新报

就在台积电与三星陆续将晶圆制造先进制程推向7纳米节点之际,全球半导体设备大厂艾司摩尔(ASML)也表示,在2018年预计出货总共18台极紫外光光刻机(EUV)之后,2019年更将把出货量提升到30台。而且,还将在2019年下半年推出效能较前一代EUV提升24%的全新机款,以逐步满足市场需求。

ASML明年出货30台EUV光刻机 新一代设备效能提升24%

根据ASML日前所公布的2018年第3季财报指出,该季营收达到27.8亿欧元,其中,设备销售营收为20.81亿欧元,安装管理服务等业务营收达6.95亿欧元,数字较第2季成长13.4%,较2017年同期也成长1%。毛利率达到了48.1%,相较第2季增加5.2个百分点,较2017年同期也增加了4.8个百分点。

以EUV的销售情况来看,ASML在第3季总共出货了5台EUV,而第2季则是出货7台EUV,在预计第4季还将出货6台EUV的情况下,全年总计将出货的数量将达到18台,还预计2019年EUV的出货数量将放大到30台。

另外,而在EUV的销售中,韩国公司占销售金额比重33%,中国台湾公司占比为30%,而中国大陆公司的销售占比则为18%。这样的数字,相较第2季的情况,韩国公司下降2个百分点,中国台湾公司则是提升了12百分点,中国大陆公司则是下跌1个百分点。

而就2019年整体EUV预估出货的情况来分析,除了EUV出货数量将大幅成长之外,ASML在2019年下半年还将推出效能进一步强化的NXE:3400C型EUV光刻机,其每小时处理的晶圆数量(WPH)将能达到155片,较目前的NXE:3400B型EUV光刻机的WPH能达成125片的效能来说,NXE:3400C型的产能预计将提升24%,这对改善EUV制程的产能将很有帮助。

不过,虽然将推出新一代NXE:3400C型EUV光刻机,其效能较上一代EUV能提升24%。但是,要全面取代传统的氟化氩(ArF)沉浸式光刻机,可能还有一段时间。

因为,即便新一代NXE:3400C型EUV光刻机能达到155 WPH的产能,但是相较现在的(ArF)沉浸式光刻机产能可达250 WPH来说,EUV光刻机的产能还有一大段距离要努力。所以,要全面取代目前仍为时尚早。

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来源:TechNews科技新报 | 责任编辑:吕栋
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