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晶瑞从韩国进口二手光刻机到货:可用于研发28nm光刻胶

责任编辑:吕栋 来源:观察者网      2021-01-20 14:36:28

观察者网·大橘财经讯(文/吕栋 编辑/周远方)历时近4个月,晶瑞股份从韩国进口的二手ASML浸没式光刻机终于到货,“可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶”。

受此影响,创业板上市的晶瑞股份今天盘中最高涨逾13%;截至发稿,涨幅回落至5.12%;换手率超过11%,成交额近6亿元,市值约68亿元。

观察者网查询“i问财”信息发现,去年5月以来,包括晶瑞股份董事长吴天舒、董事苏钢、副总经理常延武、副总经理胡建康等在内的高管多次减持该公司股份,变动市值近1.4亿元,减持原因为个人资金需求等。

图片来源:晶瑞股份

耗资超7000万元

1月19日,晶瑞股份公告披露,经该公司多方协商、积极运作,顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。该设备于当天运抵苏州并成功搬入该公司高端光刻胶研发实验室,可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。下一步,该公司将组织相关资源,尽快完成设备的安装调试。

公告截图

晶瑞股份这次采购最早披露于去年9月29日,该公司股价当天涨停。

当时的公告披露,其为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目,拟通过代理商进口韩国SK Hynix的ASML光刻机设备,总价款为1102.5万美元(约合人民币7138万元)。

这台浸没式光刻机并非ASML最先进产品。官网显示,ASML浸没式DUV光刻机最新型号为TWINSCAN NXT:2000i,可用于7nm工艺生产,而该公司一台EUV光刻机的价格甚至超过1亿欧元。

晶瑞股份表示,本次购买的ASML光刻机设备系该公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备,旨在研发出更高端的ArF光刻胶,若研发工作进展顺利,将有助于该公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越,并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。

图片来源:晶瑞股份

公告中介绍,晶瑞股份量产光刻胶近30年,先后承担了国家“85”攻关、“863”重大专项、科技部创新基金等科技项目、承担了国家02重大专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目,并顺利通过国家02重大专项验收,该公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段,达到0.15μm的分辨率。

晶瑞股份还提示风险称,研发项目经历时间较长,且至产业化并最终实现销售产生利润仍需一定时间,本次购买的光刻机设备价格昂贵,其折旧及后续维护费用预计对经营业绩存在一定影响。

财报显示,2020年1-9月,晶瑞股份实现营收7.14亿元,同比25.32%;实现净利润0.6亿元,同比增长196.42%;实现扣非净利润0.3亿元,同比增长121.16%;计入当期损益的政府补助859万元。

而光刻胶业务并非晶瑞股份业绩支撑点。2020年半年报显示,晶瑞股份锂电池材料营收占比35.04%;超净高纯试剂营收占比29.48%;光刻胶营收占比为10.05%。该公司透露,其生产的i线光刻胶已向合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子等行业头部公司供货。

2020年三季报截图

国产28nm光刻机定于去年底验收

观察者网梳理发现,按应用领域分类,光刻胶可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。目前,国产光刻胶以PCB用光刻胶为主,显示面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。

而在半导体制造领域,光刻机光源波长逐渐由紫外宽谱缩短至g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先进的EUV(<13.5nm)线水平,降低曝光波长与光刻机使用的光源以及光刻胶材料高度相关。

图片来源:方正证券研报

目前,全球光刻胶市场基本被日本、美国、中国台湾等国家与地区几家大型企业所垄断,如日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等,市场集中度非常高。

国元证券2019年1月研报

不过,中国大陆企业也在加紧布局,业内相关企业有北京科华微电子、晶瑞股份(瑞红)、南大光电、上海新阳、容大感光等。

上个月,南大光电发布公告称,其自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点,这也是国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶

而光刻机对光刻胶的检测评估必不可少。去年4月,在国家“02-专项”和宁波北仑区政府支持下,南大光电从荷兰进口一台193nm浸没式光刻机,用于光刻胶的验证和配合客户进行特种光刻工艺的开发工作。

光刻机被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,市场集中度比光刻胶更高,目前被ASML、尼康、佳能等厂商垄断。在当前局势下,实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战略意义。

2020年6月,方正证券在一份研报中提到:“在02专项光刻机项目二期中,设定的时间为2020年12月验收193nmArF浸没式DUV光刻机,其制程工艺为28纳米,对标产品为ASML现阶段最强DUV光刻机:TWINSCAN NXT:2000i。以NXT:2000i为例,各子系统拆分如下:上海微电子负责光刻机设计和总体集成,北京科益虹源提供光源系统,北京国望光学提供物镜系统,国科精密提供曝光光学系统,华卓精科提供双工作台,浙江启尔机电提供浸没系统。”

方正证券2020年6月研报截图

不过,观察者网查询上海微电子官网发现,其SSX600系列步进扫描投影光刻机最低分辨率为90nm,三款步进扫描投影光刻机于2016年实现量产。目前,90nm制程的芯片一般用于电源管理芯片、MCU等非核心芯片的生产,尚不能满足手机处理器等产品的需求。

上海微电子官网截图

去年9月16日,在华为被“断供芯片”一天后,时任中科院院长白春礼在国新办发布会上表示,将把美国卡脖子的清单变成科研任务清单进行布局,比如航空轮胎、轴承钢、光刻机,还有一些关键的核心技术、关键原材料等,在国家最关注的重大的领域,集中全院的力量来做。

一个月后,荷兰ASML首席财务官罗杰·达森表示,中国客户可以直接从荷兰进口DUV光刻机,无需任何出口许可,但他并未提到更先进的EUV(极紫外)光刻机。

本文系观察者网独家稿件,未经授权,不得转载。

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