来源：TechNews科技新报

就在台积电与三星陆续将晶圆制造先进制程推向7纳米节点之际，全球半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）也表示，在2018年预计出货总共18台极紫外光光刻机（EUV）之后，2019年更将把出货量提升到30台。而且，还将在2019年下半年推出效能较前一代EUV提升24%的全新机款，以逐步满足市场需求。

ASML明年出货30台EUV光刻机 新一代设备效能提升24%

根据ASML日前所公布的2018年第3季财报指出，该季营收达到27.8亿欧元，其中，设备销售营收为20.81亿欧元，安装管理服务等业务营收达6.95亿欧元，数字较第2季成长13.4%，较2017年同期也成长1%。毛利率达到了48.1%，相较第2季增加5.2个百分点，较2017年同期也增加了4.8个百分点。

以EUV的销售情况来看，ASML在第3季总共出货了5台EUV，而第2季则是出货7台EUV，在预计第4季还将出货6台EUV的情况下，全年总计将出货的数量将达到18台，还预计2019年EUV的出货数量将放大到30台。

另外，而在EUV的销售中，韩国公司占销售金额比重33%，中国台湾公司占比为30%，而中国大陆公司的销售占比则为18%。这样的数字，相较第2季的情况，韩国公司下降2个百分点，中国台湾公司则是提升了12百分点，中国大陆公司则是下跌1个百分点。

而就2019年整体EUV预估出货的情况来分析，除了EUV出货数量将大幅成长之外，ASML在2019年下半年还将推出效能进一步强化的NXE:3400C型EUV光刻机，其每小时处理的晶圆数量（WPH）将能达到155片，较目前的NXE:3400B型EUV光刻机的WPH能达成125片的效能来说，NXE:3400C型的产能预计将提升24%，这对改善EUV制程的产能将很有帮助。

不过，虽然将推出新一代NXE:3400C型EUV光刻机，其效能较上一代EUV能提升24%。但是，要全面取代传统的氟化氩（ArF）沉浸式光刻机，可能还有一段时间。

因为，即便新一代NXE:3400C型EUV光刻机能达到155 WPH的产能，但是相较现在的（ArF）沉浸式光刻机产能可达250 WPH来说，EUV光刻机的产能还有一大段距离要努力。所以，要全面取代目前仍为时尚早。