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美国司法部称香港商人企图偷窃通用电气商业秘密转卖内地,但证据不足

来源:观察者网

2021-03-01 19:23

【文/观察者网 张菁娟】中美两国之间的技术竞争仍在日益加剧,一项针对所谓的“对美构成国家安全威胁”的中国科技企业的新规定“即将上线”。而与此同时,美国司法部正在指控一位香港人士窃取商业秘密。

美国司法部26日发表声明称,现年64岁的吴姓(Chi Lung Winsman Ng, 音译)香港商人因涉嫌与他人合谋企图窃取通用电气公司(General Electric, GE)价值数百万美元的商业秘密,并试图将其转卖给内地公司,于周四(25日)被起诉。然而,目前美方由于证据不足,暂时无法对被告人进行定罪。

美国司法部声明截图

司法部声明援引起诉书内容,2017年3月至2018年1月,吴姓香港商人和至少一名共谋者密谋策划了一项业务,即通过从通用公司窃取的商业秘密生产和销售碳化硅(SiC)MOSFET。据悉,金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET),是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管,可用于调节通过设备的电流,通常作为计算机和其他电子产品中的常见组件之一,包括电子汽车中使用的功率转换器等。

声明指出,吴某和至少另外一个在通用工作了7年多的通用电气工程师合谋,从通用公司窃取有关MOSFET的商业机密和其他专有信息。吴某和“一号共犯”(#1)涉嫌利用这些商业机密来制定商业计划,在制作相关PowerPoint演示文稿后,将其兜售给潜在投资者。

两人还告诉潜在投资者,他们的业务可以在三年内实现盈利,并且据他们预估,其初创公司所含有形资产和无形资产价值1亿美元。根据其策划,他们要求获得约3000万美元的资金,以换取其初创公司的所有权股份。

起诉书称,2017年8月,吴某和“一号共犯”在中国会面,并向一家中国投资公司做了陈述,该公司正考虑为其创业公司提供资金。

据《南华早报》消息,联邦调查局奥尔巴尼办事处(FBI Albany Field Office)正在调查此案,但尚不清楚,被称为“一号共犯”的这名工程师的身份为何迟迟没有得到确认。

目前,暂时没有证据表明吴姓香港商人将MOSFET技术非法转让给任何一家中国公司,包括吴某和其合作伙伴试图开创的公司。因此,暂未对其进行逮捕,如经后期调查,罪名成立,则他将面临最高10年监禁和最高25万美元的罚款。

美国司法部高级官员约翰·德莫斯(John C. Demers)谴责吴某和他的同伙“选择偷窃他们因缺乏时间、才能和金钱去创造的东西。”他指出,企图让别国公司获利而窃取美国知识产权、剥夺美国公司的劳动成果的非法行为将受到美国司法部的竭力阻止。

根据领英(LinkedIn)页面个人资料显示,自2015年2月以来,吴某一直在东莞市天域半导体科技有限公司(Dongguan Tianyu Semiconductor Technology Co., Ltd.)工作,担任该公司的销售副总裁。

信息显示,在加入该公司后,他主要负责针对碳化硅铸造厂、设计公司和芯片制造商的碳化硅外延产品的市场营销和销售运营,访问了包括日立(HITACHI)、通用电气(GE)、罗姆半导体集团(ROHM Semiconductor)等多家主要客户。

值得一提的是,不光是美国即将生效的新规,打着所谓的“中国威胁美国国家安全”为由,封杀涉及技术的商业交易,就在一周前,曾多次污蔑中国“窃取知识产权”的美国候任CIA局长威廉·伯恩斯(William Burns)就曾放下狠话,称将把和中国的竞争和对抗作为任期内的核心工作。对此,中国外交部发言人作出回应称,中美关系不是你输我赢的零和游戏,不能片面以分歧来定义中美关系。希望美方能够摒弃零和思维,客观、理性看待中国和中美关系。

本文系观察者网独家稿件,未经授权,不得转载。

责任编辑:张菁娟
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